國產商業電子束光刻機“羲之”在杭州城西科創大走廊投入應用測試
位於杭州城西科創大走廊的浙江大學成果轉化基地近日傳來喜訊，全國首臺國產商業電子束光刻機“羲之”已進入應用測試階段，其精度與國際主流設備相媲美，這標誌着量子芯片研發領域中國擁有了自主的“刻刀”。
在測試現場，浙大餘杭量子研究院的團隊正在忙碌地進行應用測試，電子顯示屏上實時更新着參數。這臺自主研發的新一代100kV電子束光刻機“羲之”已正式投入市場。
“羲之”得名於書法家王羲之，其“毛筆”爲電子束，在芯片上刻寫電路。這臺設備專注於量子芯片和新型半導體研發的核心環節，通過高能電子束在硅基上“手寫”電路，精度達到0.6nm，線寬8nm，無需掩膜版即可靈活修改設計，特別適合芯片研發初期的反覆調試。
此前，此類設備受國際出口管制，中國科學技術大學、之江實驗室等國內頂尖科研機構長期無法採購。“羲之”的落地有望打破這一困局，其定價低於國際均價，目前已與多家企業及科研機構展開接洽。
“羲之”的成功並非孤例，其背後是科技創新與產業創新“兩新融合”的強力驅動。今年7月，省級教育科技人才一體改革專項試點項目落地位於餘杭區的浙江大學校友企業總部經濟園，浙江大學與該園聯手搭建了成果轉化高速路：園區企業開出“技術需求清單”；浙大教授帶研究生組隊“揭榜”；從實驗室樣品到量產產品，全流程陪跑。
在城西科創大走廊，這樣的融合正成爲常態。院士工作站落地城投未來之星辦公樓，無縫對接企業需求；城西科創大走廊連年推出優秀概念驗證項目徵集，打通成果轉化的“最前一公里”。接下去，城西科創大走廊將持續推動“兩新融合”，爲硬科技突破加速賦能，推動科技成果高效轉化爲現實生產力。
